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企業(yè)電子商務(wù)平臺(tái)
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半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程
電子行業(yè)制備超水的工藝大致分成以下幾種：
1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝a程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床（復(fù)床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床（復(fù)床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)
3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸?rarr;沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)
三種制備電子工業(yè)用超純水的工藝比較
目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進(jìn)行不同組合搭配衍生而來。現(xiàn)將他們的*缺點(diǎn)分別列于下面：
1、種采用離子交換樹脂其*點(diǎn)在于初投資少，占用的地方少，但缺點(diǎn)就是需要經(jīng)常進(jìn)行離子再生，耗費(fèi)大量酸*，而且對環(huán)境有一定的破壞。
2、第二種采用反滲透作為預(yù)處理再配上離子交換設(shè)備，其特點(diǎn)為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子設(shè)備再生周期相對要長，耗費(fèi)的酸*比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環(huán)境還是有一定的破壞性。
3、第三種采用反滲透作預(yù)處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水***經(jīng)濟(jì)，***環(huán)保用來制取超純水的工藝，不需要用酸*進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點(diǎn)在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。
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